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网赌ag平台科技HMDS涂胶烤箱的工艺流程

 发布时间:2019-09-25 点击:载入中...

网赌ag平台科技HMDS涂胶烤箱的工艺流程

        在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也尤为重要。
HMDS烤箱
 一、HMDS涂胶烤箱的原理
      HMDS涂胶系统通过对烘箱内HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
HMDS

 

二、HMDS涂胶烤箱的一般工作流程:

  2.1首先设定烤箱工作温度
  2.2打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一真空度后
  2.3开始充入氮气,充到达到某一低真空度后
  2.4再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后
  2.5开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分
  2.6然后再次开始抽真空
  2.7加热HMDS管道
  2.8充入HMDS气体到达设定时间后,停止充入HMDS药液
  2.9三面加热箱体使温度达到150度左右
  2.10进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应
  2.11当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空
  2.12充入氮气,完成整个作业过程


*文章仅为个人观点,不做为技术参考。


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